世界の フォトレジスト化学品市場 規模は、2025年には380億米ドルと推定されました。市場規模は2026年の403億米ドルから2034年には637億7000万米ドルに拡大し、予測期間中に5.91%の年平均成長率(CAGR)で成長すると予測されています。 アジア太平洋地域は、2025年には世界のフォトレジスト化学品市場シェアの70.21%を占め、市場をリードしました。
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フォト レジスト化学品市場は、 タイプ、用途、最終用途産業、地域別にセグメント化されています。タイプ別に見ると、フォトレジスト化学品市場には、DUV(ArF/KrF)フォトレジスト、g線/i線フォトレジスト、EUVフォトレジストなどが含まれます。これらの中で、先端DUV材料は半導体リソグラフィーにおける広範な使用により大きなシェアを占めており、EUVフォトレジストは次世代チップ製造の要件により最も急速な成長が見込まれています。用途別に見ると、フォトレジスト化学品市場は、半導体、フラットパネルディスプレイ(LCD/OLED)、プリント基板、MEMS・センサーに分類されます。半導体分野は、ウェーハ製造活動の活発化と高性能チップの需要増加により、フォトレジスト化学品市場を牽引しています。最終用途産業別に見ると、フォトレジスト化学品市場は、民生用電子機器、データセンター・コンピューティング、車載電子機器、産業・医療などをカバーしており、特に民生用電子機器は旺盛なデバイス需要により大きな貢献をしています。
TOKYO OHKA KOGYO (TOK)
JSR
Shin-Etsu
富士フイルム
デュポン
三井化学
オールレジスト GmbH
住友化学
世界の フォトレジスト化学品市場は 、2025年に380億米ドルと評価され、2026年には403億米ドルに達すると予測されています。フォトレジスト化学品市場は、2034年までに637億7000万米ドルに成長し、予測期間中に約5.91%のCAGRを記録すると予測されています。フォトレジスト化学品市場の成長は、主に半導体製造の急速な拡大、高度なロジックおよびメモリチップの需要増加、EUVリソグラフィ技術の採用増加によって推進されています。フォトレジスト化学品市場は、ウェーハ1枚あたりの複数のリソグラフィ工程でフォトレジスト材料を繰り返し使用する必要があるため、ウェーハ製造の集約度が高まっていることからも恩恵を受けています。民生用電子機器、車載電子機器、高性能コンピューティングからの需要の増加は、2026年のフォトレジスト化学品市場の見通しを強化し続けています。
フォトレジスト化学品市場は着実な成長を遂げているものの、 いくつかの制約に直面しています。先端フォトレジスト、特にEUVグレードの化学品は、製造コストと材料コストが高いため、コスト重視のファブでの採用が制限されています。また、フォトレジスト化学品市場は、半導体メーカーの厳格な純度要件と複雑な認定サイクルによって制約を受けており、新規サプライヤーの参入障壁が高まっています。さらに、原材料供給の不安定さと新興国における先端半導体製造能力の不足も、フォトレジスト化学品市場の成長ペースを阻害する可能性があります。さらに、化学物質の取り扱いや廃棄物処理に関する環境および規制上の圧力も、市場参加者にとって大きな課題となっています。
アジア太平洋地域は フォトレジスト化学品市場を牽引し ており、台湾、韓国、中国、日本における半導体ファウンドリやディスプレイ製造拠点の強力な存在感に支えられ、2026年には約284億米ドルに達すると予測されています。北米のフォトレジスト化学品市場は、高性能コンピューティングへの旺盛な需要と、国内半導体生産を支援する政府の取り組みに牽引され、技術的に高度な状態を維持しています。欧州では、自動車および産業用半導体製造に牽引され、フォトレジスト化学品市場は着実に成長しています。一方、インドは新興市場ですが比較的小規模なフォトレジスト化学品市場であり、2026年には約21億米ドルに達すると予測されています。需要は主に電子機器製造やPCB製造で、大規模ウェーハ製造よりも需要が高まっています。