世界のシリカベースCMPスラリー市場は、 2023年に14億7,000万米ドルと評価され、 2030年には26億8,000万米ドルに達すると予測されています。2026年から2034年の予測期間には、年平均成長率(CAGR)8.90%で成長します。この成長は、半導体ファブへの投資拡大、先進的なパッケージングアーキテクチャの普及、そして電気自動車用パワーデバイス向けSiCウェーハ研磨需要の急増によって牽引されています。
化学機械平坦化スラリーは、研磨性シリカ粒子を化学溶液に懸濁させた精密消耗材料であり、半導体製造の各層で求められる原子レベルの表面平坦性を実現します。シリカベースの各種製品(高い材料除去率を実現するフュームドシリカスラリー、優れた表面仕上げと欠陥制御を実現するコロイダルシリカスラリー)は、シリコンウェーハの最終研磨、IC製造における層間絶縁膜平坦化、先端パッケージの再配線層処理、そして急成長を遂げているSiCウェーハ前処理分野において不可欠な役割を果たします。
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市場動向
CMPスラリー市場は、世界的な半導体設備投資サイクルと構造的に連動しており、北米、欧州、日本、韓国における新規ファブ建設は、消耗品需要の持続的な増加に直接つながっています。3D ICアーキテクチャとチップレットベースの設計への移行により、ウェーハ1枚あたりのCMPプロセス工程数が増加し、単位生産量あたりのスラリー消費量が過去の水準を超えて増加しています。同時に、EVパワー半導体の需要に牽引されるSiCウェーハ分野では、特殊なコロイダルシリカ配合が求められており、市場で最も急速に成長している用途の一つとなっています。
市場の推進要因
市場の制約
市場機会
競争環境
この市場には、世界的な特殊化学品リーダーと地域スペシャリストが混在しています。富士フイルム、デュポン、メルク、レゾナックは、先進的なIC CMP処方でリードしており、一方、湖北鼎龍やサムスンSDIなどのアジア企業は、国内ファブの成長を支えるコスト競争力のあるソリューションを通じてシェアを拡大しています。
主要企業
セグメント分析
タイプ別
アプリケーション別
地域別インサイト
アジア太平洋地域は、中国、日本、韓国、台湾における大規模ウェハ製造に牽引され、市場を牽引しています。SiCおよび先進パッケージングの需要拡大も、この地域のリーダーシップを強化しています。北米は、2023年に3億8,400万米ドル規模に達し、年平均成長率(CAGR)7.63%で成長が見込まれており、アリゾナ州、オハイオ州、テキサス州に集中するCHIPS法に基づくファブ建設によって成長が加速しています。欧州市場は、自動車用半導体需要とEV向けSiCパワーデバイス製造に支えられています。南米と中東アフリカは、より広範な半導体エコシステムの発展に結びついた長期的な可能性を秘めた新興消費市場であり続けています。
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